2018-06-14 由 超能網 發表于3C這兩年為三星半導體業務立功最大的是存儲晶片部門，貢獻的營收、利潤達到七八成，而三星的晶圓代工業務雖然有高通這樣的VIP客戶，但在7nm節點上高通會轉投回台積電，三星要想拉攏到更多的客戶，只能從工藝技術上著手了。這也是三星為什麼跳過非EUV工藝的7nm工藝，直接上7nm LPP EUV工藝的原因，如今他們的7nm LPP工藝已經完成了Synopsys的物理認證，意味著7nm
EUV工藝全球首發了。
在幾大半導體公司中，英特爾的10nm還沒搞定，7nm就更遙遠了，台積電的7nm工藝（N7工藝）量產比較順利，會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客戶陸續流片、量產，不過台積電的第一代7nm工藝還是傳統的多重曝光工藝，2019年的N7 Plus工藝才會使用EUV光刻工藝。
Globalfoundries這邊也是類似的路線，今年量產的7nm DUV還是傳統的深紫外光刻工藝，此前號稱頻率可達5GHz，AMD的7nm Zen 2處理器會使用Globalfoundries的7nm工藝，明年初問世，2020年的再下一代才是7nm EUV工藝。
三星在EUV工藝上市最激進的，直接跳過了第一代非EUV光刻的7nm工藝，根據之前的路線圖，三星第一個使用EUV工藝的就是7nm LPP工藝，預定今年下半年量產。日前Synopsys與三星聯合宣布已經使用後者的7nm LPP工藝完成了IC驗證器的認證工作。
這次認證完成之後，三星的7nm LPP工藝可以立即提供認證的運行庫，包括DRC設計規則檢查、LVS布局與原理圖、金屬填充技術文件等等，這也意味著三星的7nm LPP工藝走入了正軌。
根據之前的消息，ASML的EUV光刻機中，台積電訂購了大約10台，三星訂購了大約6台，英特爾訂購了3台，Globalfoundries的EUV訂單數量不詳，國內的中芯國際也訂購了1台EUV光刻機用於7nm工藝研究，明年初交貨。
